Осенью прошлого года Canon начала сотрудничество с Intel, отправив на исследование установку для производства прогрессивных чипов методом нанопечати. Эта инновационная технология предполагает уменьшение затрат на оборудование для производства чипов с размером 5 нм и экономию электроэнергии. Компания Dai Nippon Printing (DNP) разработала специализированный материал для создания матриц, которые позволят формировать рисунок на кремниевых пластинах для последующего травления чипов. В 2027 году DNP планирует наладить массовое производство таких расходных материалов, что в комбинации с оборудованием Canon даст возможность создавать 1,4-нм чипы. Утверждается, что затраты на электроэнергию при этом снизятся на 90 % по сравнению с традиционной литографией. Интерес к технологии проявляют также такие компании, как Samsung, TSMC, Micron и Kioxia, однако переход на нанопечать требует уверенности в ее перспективах. Рынок литографического оборудования в последние два десятилетия контролирует ASML, а Fujifilm Holdings также планирует участвовать в производстве материалов для нанопечати. производству чипов для Tesla сотрудничество в сфере ИИ-чипов