Китайская полупроводниковая индустрия находит альтернативные пути для обхода западных экспортных ограничений, модернизируя старые литографические сканеры ASML с глубоким ультрафиолетовым излучением (DUV). Это позволяет извлекать максимальную пользу из оборудования, легитимность которого не подлежит сомнению, подчеркивая недостатки в нормативно-правовом регулировании, направленном на замедление технологического прогресса в стране. новые условия для закупки чипов Nvidia

Согласно экспортным ограничениям США и Нидерландов, ASML не может поставлять свои самые современные литографические системы в Китай, что вынуждает китайские фабрики использовать устаревшие установки, такие как ASML Twinscan NXT:1980i, для производства 7-нм чипов, пригодных для современных AI-ускорителей.

Китайские производители смогли обновить оборудование за счет вторичного рынка, что улучшило точность и производительность без нарушения экспортных правил. Среди компаний, занимающихся производством продвинутых чипов, находятся SMIC и Huawei. Несмотря на существующие ограничения, аналитики отмечают, что достигнутые результаты демонстрируют прогресс Китая в полупроводниковой сфере, хотя модернизация устаревшего оборудования не способна полностью заменить доступ к современным технологиям.